WQF-530A/Pro FT-IR स्पेक्ट्रोमीटर

उच्च संवेदनशीलता ऑप्टिकल प्रणाली
क्यूब-कॉर्नर माइकलसन इंटरफेरोमीटर को पेटेंटेड फिक्सिंग मिरर अलाइनमेंट तकनीक (यूटिलिटी मॉडल ZL 2013 20099730.2: फिक्सिंग मिरर अलाइनमेंट असेंबली) के साथ जोड़ा गया है, जिससे दीर्घकालिक स्थिरता सुनिश्चित होती है, बिना किसी गतिशील अलाइनमेंट की आवश्यकता के, जिसके लिए अतिरिक्त जटिल इलेक्ट्रॉनिक सर्किट की आवश्यकता होती है। अधिकतम प्रकाश प्रवाह प्रदान करने और संसूचन संवेदनशीलता सुनिश्चित करने के लिए परावर्तक दर्पणों पर स्वर्ण की परत चढ़ाई जाती है।

उच्च स्थिरता मॉड्यूलर विभाजन डिजाइन
कास्ट एल्यूमीनियम बेस पर लेआउट के साथ कॉम्पैक्ट संरचना मॉड्यूलर डिजाइन और यांत्रिक मजबूती और विभाजन गर्मी अपव्यय का समग्र संतुलन, विरूपण प्रतिरोध की उच्च क्षमता और कंपन और थर्मल विविधताओं के प्रति कम संवेदनशील प्रदान करता है, जो उपकरण की यांत्रिक स्थिरता और दीर्घकालिक कार्य स्थिरता में काफी सुधार करता है।

बुद्धिमान बहु-सीलबंद नमी-रोधी डिज़ाइन
अनेक सीलबंद इंटरफेरोमीटर, दृश्यमान खिड़की और आसान प्रतिस्थापन संरचना के साथ बड़ी क्षमता वाले डेसीकेंट कार्ट्रिज, इंटरफेरोमीटर के अंदर तापमान और आर्द्रता की वास्तविक समय निगरानी, ​​कई तरीकों से ऑप्टिकल सिस्टम को उच्च तापमान, उच्च आर्द्रता और रासायनिक जंग के प्रभावों से छुटकारा दिलाना।

नवोन्मेषी एकीकरण इलेक्ट्रॉनिक प्रणाली
उच्च संवेदनशीलता पायरोइलेक्ट्रिक डिटेक्टर प्री-एम्पलीफायर प्रौद्योगिकी, गतिशील लाभ प्रवर्धन प्रौद्योगिकी, उच्च परिशुद्धता 24-बिट ए/डी रूपांतरण प्रौद्योगिकी, वास्तविक समय नियंत्रण और डेटा प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी, डिजिटल फिल्टर और नेटवर्क संचार प्रौद्योगिकी, उच्च गुणवत्ता वाले वास्तविक समय डेटा संग्रह और उच्च गति संचरण सुनिश्चित करते हैं।

अच्छी विद्युत-चुंबकीय हस्तक्षेप-रोधी क्षमता
इलेक्ट्रॉनिक प्रणाली को CE प्रमाणीकरण और विद्युत चुम्बकीय संगतता आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो हरित उपकरण डिजाइनिंग अवधारणा के अनुरूप डिजाइन और प्रौद्योगिकी में विद्युत चुम्बकीय विकिरण को न्यूनतम करता है।

उच्च तीव्रता IR स्रोत असेंबली
उच्च तीव्रता, लंबी आयु वाला IR स्रोत मॉड्यूल, जिसमें फिंगरप्रिंट क्षेत्र में उच्चतम ऊर्जा वितरण होता है, सम और स्थिर IR विकिरण प्राप्त करने के लिए रिफ्लेक्स स्फीयर डिज़ाइन को अपनाता है। बाहरी पृथक IR स्रोत मॉड्यूल और बड़े स्थान वाले ऊष्मा अपव्यय कक्ष का डिज़ाइन उच्च तापीय स्थिरता और स्थिर प्रकाशीय हस्तक्षेप प्रदान करता है।